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清洗光刻板需要什么样的流程与工艺

2022-05-07
博研认为光刻板清洗的流程以及优化,需要在实际生产运用中来完善,要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数,在各种工艺清洗时的时间和光刻板的转速来缩短清洗光刻板的时间,而这个参数需要在不断地实验中完善。
 清洗光刻板需要什么样的流程与工艺
光刻板清洗的流程:
 
在从曝光机卸载下光刻板之后,送至清洗室准备进行清洗。首先需要确认清洗机的工作状态,确认药剂的温度以及药剂是否足够等,然后再将光刻板送入清洗机,选择适当的清洗工艺进行清洗作业。清洗机内清洗主要流程:正面清洗、背面清洗(膜面)以及检查3个步骤,可以根据清洗的不同原因通过工艺编辑更改清洗的顺序。
 
光刻板的正面和背面清洗主要包括纯水冲洗、毛刷和洗剂清洗、毛刷和纯水清洗、超声波清洗以及氮气干燥这几个步骤,每个步骤光刻板都会按照设定的转速旋转。而且为了防止在清洗时,正面洗过的液体流向背面,在清洗时所有步骤都会使用位于光刻板下方的喷淋口,使用纯水对光刻板的下面进行纯水的喷淋作业。
 
光刻板清洗的工艺:
 
在清洗机内清洗时,主要流程是纯水冲洗、毛刷和洗剂清洗、毛刷和纯水清洗、超声波清洗以及氮气干燥,在这清洗的每道工序进行的时候,光刻板都会按照设定的转速一直旋转,以达到可以整面清洗的目的,下面分别介绍主要清洗的工艺。
 
1.毛刷清洗
 
在清洗机内清洗时,主要是依靠毛刷进行清洁光刻板表面的脏污。毛刷需要采用吸水性、恢复性、耐磨性、耐腐蚀性等方面都较出色的材料制成的盘刷,在毛刷回转速时,毛刷外周的接触面积较大,可以有效提高清洗效果。在清洗光刻板时,可以通过设定毛刷的转速以及毛刷的压入量来改善清洗效果。
 
2.超声波清洗
 
正常清洗时,毛刷配合药液清洗之后会使用超声波和纯水共同清洗来去除微细颗粒。超声波Shower通过设定输出功率来变更清洗能力。在清洗模块固定不动的情况下,有效的清洗面积比较小,但通过光刻板的自旋转,以及清洗模块的来回移动可以将光刻板的整面都覆盖。
 
3.氮气干燥
 
在光刻板清洗结束之后,会慢慢加速旋转,当达到一定速度时会保持一个恒定的转速,同时,氮气干燥管会慢慢移动到光刻板中心位置正上方,与下方的氮气气管同时向光刻板吹气,通过离心力的作用,将光刻板表面的液体吹出表面以达到干燥效果。
 

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