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微纳加工的前景好不好

2021-11-03
据博研小编了解,在过去的50多年中,微纳加工技术的进步极大地促进了微电子技术和光电子技术的发展。
 微纳加工的前景好不好
    微电子技术的发展以超大规模集成电路为代表,集成度以每18个月翻一番的速度提高,使得以90nm为最小电路尺寸的集成电路芯片已经开始批量生产。
 
    以光刻与刻蚀为基础的平面为加工技术已经成为超大规模集成电路的技术核心,随着电子束光刻技术和电感耦合等离子体(ICP)刻蚀技术的出现,平面微纳加工工艺正在推动以单电子器件与自旋电子器件为代表的新一代纳米电子学的发展。
 
    当微纳加工技术应用到光电子领域,就形成了新兴的纳米光电子技术,主要研究纳米结构中光与电子相互作用及其能量互换的技术。
 
    微纳加工技术的发展,将促进纳米光电子器件向更深更广的方向发展。微纳加工的半导体纳米结构在光电子领域带来许多新的量子物理效应,如量子点的库仑阻塞效应和光子辅助隧穿效应,光子晶体的光子带隙效应等。对这些新的纳米结构带来的新现象的研究将为研制新原理基础上的新器件打下基础。
 
    从实现微纳微结构的方式和途径来看,构成微纳制造技术体系的方法可分为两类:一种是通过原子、分子的移动、搬迁、重组来构成微纳尺度的微结构,即所谓的自下而上或由小到大(bottom-up)的方法,基于扫描隧道显微镜的原子搬移方法属于此类;
 
    另一类方法是通过材料的去除,逐步形成所需要的微细结构或器件,这种方式可称为自上而下(top-down)的方式,高能束流加工、切削加工、放电加工、化学刻蚀等许多方法都属于这一类。
 
    微纳制造有着重要的工业前景,是许多技术领域发生重大发展的基础和支撑技术。微纳制造科学技术领域存在许多未知,需要人们去探索和掌握。
 
    在微纳尺度的微结构里,原子的运动方式会发生变化,因而可能会出现许多不同于宏观尺度下的现象。微纳制造方面的技术方法和理论体系有待于发展和建立。博研小编认为微米纳米级制造的新概念、新技术、新工艺将不断出现,在生产实际中的应用会愈来愈深入和广泛。

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